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ファインパターン化技術

プリント配線板のファインパターン化の指標は、ライン幅とスペース幅 Line and Spaceで示しています。(Line/Space→以降 “L/S”と略す。)
携帯電話向けやデジタルビデオカメラ向けのマザーボード用プリント配線板のL/Sは、75/75μmが主流となり、上位機種向けでは、部分的に50/50μmルールで形成するプリント配線板が出始めています。

一方、インターポーザ基板では、L/S=35/35μm〜30/30μmが主流であり、上位機種では15/15μmレベルが一部のメーカーで量産を行っています。

1. パターン形成の製法比較
パターン形成の製法は、大きく分けて2通りの方法があります(図2参照)。
  • サブトラクティブ法
    銅箔や、銅めっき上に写真製法でレジストを形成し、不要部分をエッチングし、パターン形成する方法。

  • セミアディティブ法
    薄いシード層上に写真製法でレジストを形成し、パターンとなる部分に銅めっきでパターンを形成し、不要部分のシード層を除去する方法。
図2:パターン形成製法比較

図2:パターン形成製法比較
2. 各製法の特徴

特徴の比較を表1に示します。

セミアディティブ法は主に、インターポーザ用配線板などのファインパターン対応の配線板に用いられます。

サブトラクティブ法は、マザーボード等、多くの用途に用いられます。また、インターポーザ用配線板に於いても、コア層(電源、GND層等)の比較的 L/S のファインではない層に用いられる事があります。

この2つの製法は、表1に示すようにそれぞれ適用する上での課題を持っています。特に、セミアディティブ法では、剛性に劣るため、ワイヤーボンド性が損なわれる懸念もありました。

表1:各製法の特徴比較

表1:各製法の特徴比較

図3:各製法の断面写真(インターポーザ用配線板)

図3:各製法の断面写真(インターポーザ用配線板)
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